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高純三氟化硼(11BCl3)和高純11BF3(純度 99.999%以上)

產品介紹

     三氟化硼(11BF3)等氣體可以通過外延生長、離子注入、摻雜、刻蝕、清洗、掩蔽膜生成等關鍵工藝使硅材料(晶圓基底材料)具備半導體等光電性能,它決定了集成電路、半導體材料的性能、集成度、成品率,被稱為半導體集成電路制造的“糧食”或“源”。還廣泛應用于光電子、化合物半導體、太陽能光伏電池、液晶顯示器等領域。

質量指

項目 指標
11BF3 ≥99.999%
CO <0.5ppm
CO2 <0.5ppm
N2 <1ppm
O2 <3ppm
SiF4 <2ppm
SO2 <2ppm
硫酸鹽(Sulfates) <0.5ppm
THC(以甲烷計) <0.5ppm

應用領域

     廣泛應用于光電子、化合物半導體、太陽能光伏電池、液晶顯示器、光導纖維制造等領域。

 

 

 





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